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氧化亞硅前驅體
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P-SiO-1
具有純度高(99.9%)、非晶態、沉積均勻、單爐產量高的特點,磁性物質含量可做到5ppm以下,金屬元素雜質可做到1000ppm以下,穩定可靠的生產工藝可保證批量供貨的批次穩定性,嚴格高效的過程管理可實現產品最優的性價比
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E-SiO-1
在保持純氧化亞硅材料特性的同時,使用特有的原位摻雜方法,實現了多種元素的均勻摻雜,且摻入元素及摻入量支持定制,不同的摻入元素對氧化亞硅本體的性質影響較大,對應于低體積膨脹率、高首次庫倫效率、高電子電導率等多種不同特性
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SiO-2
高性能(改性)前驅體材料粉體的粒徑可根據客戶需求由Dv50為2μm-50μm定制,粒徑分布窄,振實密度高,比表面積小,材料細粉少,無大顆粒及團聚情況
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HC-1600
層狀包覆層
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HC-1601
類石墨烯結構包覆層
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HL-1410
金屬元素摻雜材料
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HL-1420
金屬元素摻雜材料
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HE-1430
預鋰化材料,高首效
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